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勻膠旋涂?jì)x的操作步驟

更新時(shí)間:2024-06-24       點(diǎn)擊次數:267
勻膠旋涂?jì)x是在高速旋轉的基片上,滴注各類(lèi)膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備,膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。該設備主要用于晶片涂光刻膠。

勻膠旋涂?jì)x的使用步驟:

1、開(kāi)機前準備:清理殘余物,選擇合適的吸盤(pán),并將樣品放在吸盤(pán)正中央。

2、開(kāi)機與設定:打開(kāi)電源,設定涂布的時(shí)間和轉速,并啟動(dòng)真空吸附。

3、涂布:滴加光阻劑,并啟動(dòng)涂布過(guò)程。

4、完成涂布后,關(guān)閉真空和電源,取下樣品。

本公司提供的L2001勻膠旋涂?jì)x操作簡(jiǎn)單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,占地面積小,節省超凈間的使用面積,為實(shí)驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng )新設計的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán),無(wú)需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂?jì)x可對大小不同規格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達到旋涂效果。不會(huì )出現真空吸盤(pán)旋涂較薄的基材襯底翹曲現象,影響涂層的均勻性。

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